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光刻技术

发布日期:2025-02-22浏览次数:89

光刻技术是半导体制造中的关键工艺之一,其基本原理是利用光学-化学反应原理,通过光源、掩膜、光敏材料和显影等步骤,将图案传输到待加工的基片上。具体来说,光刻技术利用光学-化学反应原理,在光照作用下,借助光致抗蚀剂(光刻胶)将掩膜版上的图形转移到基片上。光经过掩膜的透明区域照射到光敏材料上,使其发生化学或物理变化,然后通过显影去除未曝光的光敏材料(对于正性光刻胶)或曝光的光敏材料(对于负性光刻胶),最终形成所需的图案。‌